制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水；
原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器（石英砂過(guò)濾器）→活性炭過(guò)濾器→軟水處理器（添加阻垢劑裝置）→精密過(guò)濾器→高壓泵→一級(jí)反滲透（RO）裝置→紫外線殺菌裝置（臭氧殺菌裝置）→用水點(diǎn)
反滲透技術(shù)因具有特殊的優(yōu)越性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問(wèn)題可能使許多技術(shù)力量不強(qiáng)的用戶(hù)遭受損失，所以要做好反滲透設(shè)備的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴(yán)重的問(wèn)題。
一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、精密過(guò)濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達(dá)到反滲透的進(jìn)水要求。預(yù)處理系統(tǒng)的設(shè)備配置應(yīng)該根據(jù)原水的具體情況而定。
